重大突破！中国成功自研28nm光刻机，将要打破西方光刻机垄断！

导读：在前不久，上海微电子公司成功宣布研制出了28nm光刻机，而这次的成功也具有了划时代的意义，因为此前并没有一个国家可以独立的成功研制出光刻机，而中国这次也是自主研发成功，成功的打破了西方国家在光刻机领域的垄断地位。

中国从之前的落后国家发展到现在让世界人刮目相看的地步，其实一直也是付出了巨大的努力，但中国的发展向世人说明了一个道理，只要有梦想就总会有希望，而每一个中国梦的实现的背后，都倾注了太多人的心血，但正是这样如此奋发图强的中国，才是值得让每一个中国人感到骄傲的国家，才会实现一个又一个新的突破。

而在前不久，中国又发布了一项令人感到振奋人心的消息，那就是在光刻机方面，中国又一次取得了新的突破。其实之前因为中国在芯片领域的发展一直是存在很多不足的方面，而美国作为在这个领域的强国，一直也是表现了巨大的优越感，在前段时间也是运用了一些手段对华为公司进行了芯片封锁，如此一来在芯片领域发展非常薄弱的我们，因为芯片断供而迎来了非常艰难的处境。

但其实中国一直有着一个很好的习惯，那就是会越战越勇，在沉默中一直努力进步努力发展，最终所取得的成就可能会让所有人刮目相看。而这次中国在芯片方面的发展就是如此，因为芯片制造在中国一直是普遍面临的一个问题，而与电子芯片有着直接关联的就是光刻机，想要制造电子芯片就必须要光刻机，而在全世界，没有任何一个国家可以独立生产出顶级的光刻机设备，中国目前也做不到。

但在前不久，上海微电子公司成功宣布研制出了28nm光刻机，而这次的成功也具有了划时代的意义，因为此前并没有一个国家可以独立的成功研制出光刻机，而中国这次也是自主研发成功，成功的打破了西方国家在光刻机领域的垄断地位。