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哈工大再次立功,光刻机核心部件获重大突破,已应用于DUV光刻机

来源: 发布时间:2023-03-29

哈工大研发的高速超精密激光干涉仪,犹如一剂强心针,将会推动国产光刻机的快速发展。相信随着光刻机核心单元被一个个攻克,之前传闻中的国产DUV光刻机也将会浮出水面,在14nm,甚至是7nm国产化芯片的制造上,发挥出重要的作用。